株式会社ジェイ・イー・ティ（6228） 有価証券報告書 2023年12月期

第一部 【企業情報】

第１ 【企業の概況】

１ 【主要な経営指標等の推移】

(1) 連結経営指標等

(注) １．潜在株式調整後１株当たり当期純利益については、潜在株式が存在しないため、記載しておりません。

２．従業員数は就業人員数であり、臨時雇用者数は年間の平均人員を〔 〕外数で記載しております。

３．第13期、第14期及び第15期の連結財務諸表については、「連結財務諸表の用語、様式及び作成方法に関する規則」（1976年大蔵省令第28号）に基づき作成しており、金融商品取引法第193条の２第１項の規定に基づき、ＡＣアーネスト監査法人により監査を受けております。

４．「収益認識に関する会計基準」（企業会計基準第29号　2020年３月31日）等を第14期の期首から適用しており、第14期以降に係る主要な経営指標等については、当該会計基準等を適用した後の指標等となっております。

５．2022年12月15日開催の取締役会決議に基づき、2023年１月１日付で、普通株式１株につき２株の割合で株式分割を行っております。これに伴い、当該株式分割が第13期の期首に行われたと仮定して、１株当たり純資産額及び１株当たり当期純利益を算定しております。

(2) 提出会社の経営指標等

(注) １．潜在株式調整後１株当たり当期純利益については、潜在株式が存在しないため、記載しておりません。

２．株価収益率については、第11期及び第12期は当社株式が非上場であるため記載しておりません。

３．第13期、第14期及び第15期の財務諸表については、「財務諸表等の用語、様式及び作成方法に関する規則」（1963年大蔵省令第59号）に基づき作成しており、金融商品取引法第193条の２第１項の規定に基づき、ＡＣアーネスト監査法人により監査を受けております。

４．「収益認識に関する会計基準」（企業会計基準第29号　2020年３月31日）等を第14期の期首から適用しており、第14期以降に係る主要な経営指標等については、当該会計基準等を適用した後の指標等となっております。

５．2022年12月15日開催の取締役会決議に基づき、2023年１月１日付で、普通株式１株につき２株の割合で株式分割を行っております。これに伴い、当該株式分割が第13期の期首に行われたと仮定して、１株当たり純資産額及び１株当たり当期純利益を算定しております。なお、１株当たり配当額につきましては、当該株式分割前の実際の配当金の額を記載しております。

６．2023年９月25日付をもって東京証券取引所スタンダード市場に株式を上場いたしましたので、第11期から第15期までの株主総利回り及び比較指標については記載しておりません。

７．最高株価及び最低株価は、東京証券取引所スタンダード市場におけるものであります。

　　なお、2023年９月25日付をもって同取引所に株式を上場いたしましたので、それ以前の株価については記載しておりません。

２ 【沿革】

　当社は、2008年９月のリーマン・ショック後の半導体不況時に民事再生手続きを開始し、その後破産手続きに移行したエス・イー・エス株式会社を前身としております。エス・イー・エス株式会社は、元JASDAQ上場企業で半導体洗浄装置の製造、販売及び保守サービスを行っておりました。同社は、韓国のSamsung Electronics等の半導体メーカー向け洗浄装置でバッチ式洗浄装置では10％強の市場シェアを持っており、同社の破綻は顧客である半導体メーカーの生産や投資計画に影響を及ぼす可能性がありました。同社の韓国エージェントであった半導体・液晶パネル製造装置を製造販売する韓国企業のZEUS Co., Ltd.は、同社の顧客から、納品済み装置の保守や今後の投資計画に基づく装置購入の対応を求められ、その対応や既存顧客を受け継ぐため、ZEUS Co., Ltd.は全額出資により、岡山県浅口郡里庄町において2009年４月24日に当社を設立し、2009年５月にエス・イー・エス株式会社の岡山グリーンテクノ工場等を事業譲渡により引き継ぎました。

　当社設立以後の企業集団に係る経緯は、次のとおりであります。

　資本等関係変遷図

　　※網掛した会社が現在事業を継続している会社となります。

３ 【事業の内容】

当社グループは、当社（株式会社ジェイ・イー・ティ）及び連結子会社５社により構成されており、半導体製造の前工程で使用される半導体洗浄装置の開発、設計、製造、販売を主な事業として取り組んでおります。

当社は、リーマン・ショック後の半導体不況時に破産手続きを開始したエス・イー・エス株式会社を前身としております。当時のエス・イー・エス株式会社が開発した半導体洗浄装置は、バッチ式洗浄装置において、顧客の要求仕様に合わせて洗浄槽の構成や設置数の変更といったカスタマイズが可能でありました。半導体の集積度の向上により、顧客のニーズは、より高粘度・高比重の薬液への対応を求められており、その顧客ニーズに対応する洗浄槽では処理時間が長くなります。エス・イー・エス株式会社が開発した洗浄装置では、装置前面に搬入機器、装置後面に搬出機器を配置することでシリコンウエハ(以下、「ウエハ」といいます。)の流れ方向を１方向にすること等により、処理時間の長い洗浄槽を並列して複数配置することができ、単位時間あたりのウエハ処理枚数を増加させることが可能でありました。また、エス・イー・エス株式会社はバッチ式洗浄装置では10％強の世界市場シェアと優良顧客を持っていたため、当社はエス・イー・エス株式会社の半導体事業を引き継ぎました。

半導体製造工程においてはウエハに回路を形成するまでの「前工程」と、回路が形成されたウエハを半導体チップに切り出して製品化する「後工程」とに分かれております。「前工程」では、成膜・レジスト塗布・露光・現像・エッチング・不純物注入・レジスト剥離といったプロセスが繰り返し行われており、各プロセスの間にはウエハに付着した微細な汚れやゴミを取り除くため洗浄工程が必要となります。 「後工程」では、回路形成済みのウエハからチップ切り出し・ダイシング・パッケージング・検査といったプロセスが一連の流れとして行われており、各プロセスにて比較的大きな汚れやゴミを取り除くため洗浄工程が必要となります。当社はより洗浄能力を求められる前工程の各プロセスでの処理前後において実施される洗浄工程における装置の開発、製造、販売を行っております。なお、洗浄工程は各プロセスで実施されるため、半導体製造の前工程の30～40％が洗浄工程となり、前工程における重要な役割を担っております。

半導体洗浄装置については、多数（25～50枚）のウエハを同時に各処理槽にて処理を行う「バッチ式洗浄装置」と、ウエハを１枚ずつチャンバー（処理槽）内で処理する「枚葉式洗浄装置」があります。一般的にバッチ式洗浄装置の長所は生産性が高いこと、短所はウエハの塵を拾いやすいことが挙げられます。また枚葉式洗浄装置の長所はウエハを１枚ずつ精密に制御して洗浄が可能なこと、短所はバッチ式洗浄装置に比べて生産性が低いことが挙げられます。また、半導体洗浄装置市場においては、一時期、バッチ式洗浄装置から枚葉式洗浄装置への置き換わりが進んでおりましたが、近年では半導体製造技術の進歩につれて、より微細化や高積層化が進み、長時間かつ高温を要する洗浄プロセスが増えており、生産性の優位性やその特徴からバッチ式洗浄装置は2022年度においても世界の洗浄装置市場全体の約24％程度の構成比を堅持しております。

当社グループの半導体洗浄装置は、バッチ式洗浄装置（BW3700、BW3000、BW2000）においては、標準的な装置前面に搬入搬出機器を配置したタイプ（I-Type）と当社独自の装置前面に搬入機器、装置後面に搬出機器を配置したタイプ（F-Type）の２種のタイプがあります。ともに顧客の要求仕様に合わせたカスタマイズ性を有しておりますが、特に当社独自のタイプ（F-Type）では、洗浄槽の設置数を変更することにより時間当たりのウエハ処理枚数を最大化する等、より顧客ニーズに沿ったカスタマイズが可能であります。枚葉式洗浄装置（HTS-300）においては、ヒーターにてウエハ上の薬液を高温にするといった特殊な機能を搭載することにより、処理性能及び処理能力の向上、使用薬液の削減といった顧客のメリットに繋がる機能を有しております。半導体洗浄装置は、主に韓国、中国、台湾の半導体メーカーへ販売しております。また、半導体洗浄装置に関連するフィールドサービスとして、装置の改造、部品の販売、顧客の工場における保守サービス等の対応を行っております。

当社の主要な製品は以下のとおりであります。

当社及び子会社の事業における位置付け及びセグメントとの関連は、次のとおりであります。なお、以下に示す区分は、セグメントと同一の区分であります。

（半導体事業）

当社グループの半導体洗浄装置の開発・設計、製造、販売については、当社にて行っております。なお、装置の一部につきまして、顧客への販売支援業務や顧客工場での装置立上業務等を連結子会社のJ.E.T. Semi-Con. International Taiwan, Inc.（協裕国際科技股份有限公司）とOribright Shanghai Co., Ltd. (欧利白科技（上海）有限公司）の２社及び当社の親会社でありますZEUS Co., Ltd.に業務委託しております。部品販売及び保守サービスにつきましては、当社でも行っておりますが、上記連結子会社２社及び親会社でも部品販売及び保守サービスを行っております。また、部品の一部について、ZEUS Co., Ltd.経由で韓国のメーカーから仕入れを行っております。

なお、2019年７月に発表された日本政府による韓国向け輸出管理強化の影響から、半導体製造装置の国産化比率の向上を図る韓国政府の政策に対応するため韓国の顧客より韓国国内での装置製造の要請があり、顧客との関係強化を目的として、2020年９月にJ.E.T. Korea Co., Ltd.を韓国に設立して装置の製造を開始し、2023年度には８台の装置を製造いたしました。

その他、密閉後の電池ケースや外装材のピンホール等による電解液の漏れを検出する「電解液リーク検査装置（ELC-J1000）」、多層箔やフィルム等に対しても材料の熱変性や変形が少なく信頼性の高い超音波接合を可能にする「超音波接合システム（UWS-J1000）」などのリチウムイオン電池に関連する検査・製造装置を開発し、主として国内顧客に対して販売を行っております。

（その他の事業）

株式会社ＯＳＭＩＣ（東京都中央区日本橋茅場町2-9-8 茅場町第2平和ビル6F、代表取締役　執行役員社長　中川英之）がＦＣ展開するオスミック農産物生産事業を採用した、農産物の生産・販売等を行っております。

なお、アグリ事業において、独立した法人として個別採算管理を徹底すること、責任の明確化を図ることとともに、農地所有適格法人としての農地所有や各種制度融資などのメリットを活かし、本事業の収益力及び競争力を向上させるため、2021年10月に株式会社ジェイ・イー・ティ・アグリを設立いたしました。

事業の系統図は、次のとおりであります。

（注） 親会社であるZEUS Co., Ltd.は、当社の議決権の66.4％を保有しております。

（注） 農産物は、国内顧客のみに販売しております。

４ 【関係会社の状況】

(注) １．ZEUS Co., Ltd.は韓国取引所（KOSDAQ）に株式を上場しております。

２．有価証券届出書又は有価証券報告書を提出している会社はありません。

３．J.E.T. Korea Co., Ltd.およびJET AMERICA INC.は、特定子会社であります。

５ 【従業員の状況】

(1) 連結会社の状況

(注) 従業員数は就業人員であり、臨時雇用者数（パートタイマーを含み、派遣社員を除く。）は、年間の平均人員を（　）外数で記載しております。

(2) 提出会社の状況

(注) １．従業員数は就業人員であり、臨時雇用者数（パートタイマーを含み、派遣社員を除く。）は、年間の平均人員を（　）外数で記載しております。

２. 平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。

(3) 労働組合の状況

当社グループにおいて労働組合は結成されておりませんが、労使関係は円満であり、特記すべき事項はありません。

(4) 管理職に占める女性労働者の割合、男性労働者の育児休業取得率及び労働者の男女の賃金の差異

　　提出会社

(注) １．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（平成27年法律第64号）の規定に基づき算出したものであります。

２. 「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」（平成３年法律第76号）の規定に基づき、「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律施行規則」（平成３年労働省令第25号）第71条の４第１号における育児休業等の取得割合を算出したものであります。

第２ 【事業の状況】

１ 【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】

文中の将来に関する事項は、提出日現在において当社グループ（当社及び当社の連結子会社）が判断したものであります。

（１）会社の経営の基本方針

当社グループ（当社及び当社の連結子会社）は以下のとおり、企業理念を掲げ、従業員が心がけるべき企業の信条として、クレド（未来をつくる６つの約束）を定めています。

目まぐるしいスピードで進化する技術分野。その真っただ中に身を置く企業として「さらなる新技術への挑戦」、「より役立つ製品づくり」を軸に、これからも私たちは進化し続けてまいります。

（企業理念）

　お客様第一主義に徹し、強い会社・良い社会づくりに邁進し、人を大切にし、社会貢献に努めてまいります。

（クレド－未来をつくる６つの約束）

　①　精神　私たちはまず一歩踏み出すことからはじめます。

　　　　　　夢と情熱とあきらめない姿勢を活力にします。

　②　人　　私たちは人の力を何よりも大切にします。

　　　　　　お互いを思いやり、信頼し合い、きずなを深めながら、仕事に取り組みます。

　③　顧客　顧客第一主義に徹し、

　　　　　　私たちは常にお客様の立場で考え、感動を与えられるよう、全力を尽くします。

　④　挑戦　私たちは挑戦する姿勢を大切にします。

　　　　　　そして挑戦する力を全員で応援します。

　⑤　迅速　私たちは常にスピードと効率を意識し、その準備を怠りません。

　　　　　　臨機応変な対応と一歩先を読む意識を持って取り組みます。

　⑥　技術　未来は、私たちの技術から生まれます。

　　　　　　常に最新の情報を共有し、技術の継承と育成をしていきます。

（２）経営上の目標達成状況を判断するための客観的指標

当社グループは、安定・継続した成長を目指し、2023年12月15日に中期経営計画「Challenge 2026」を策定し、経営上の指標として、売上高、原価率、営業利益、営業利益率の目標値を定めております。

（３）経営環境及び経営戦略

当社グループが属する半導体業界におきましては、2019年の一時的な投資停滞以降、次世代通信規格５Ｇ及びＡＩ、自動運転、ＩｏＴへの対応から通信量及びデータ処理量の増加によるデータセンター需要の拡大に加え、スマートフォンの高性能化などによる半導体需要の増加を背景に、大手半導体メーカー及び中国等の新規参入の半導体メーカーが積極的な設備投資を行い、市場規模は大きく拡大しております。また、当社グループは、半導体業界のうち、半導体製造の前工程で使用される半導体洗浄装置の製造・販売を行っており、半導体洗浄装置は、半導体製造過程において複数回の処理を必要とするプロセスに使用されており、半導体製造においては必要不可欠、かつ他の装置では置換不能であるため、半導体の市場規模の拡大と比例して、半導体洗浄装置の市場も増大しており、一時的な減速は想定されますが、今後も継続して増大していくものと考えております。

こうした状況の下、2022年後半からメモリー価格は下落しておりましたが、ＤＲＡＭでは生成ＡＩ向けサーバーやＧＰＵには多くのＨＢＭ（High Bandwidth Memory）が使用され、ＤＲＡＭの価格は上昇に転じ、ＮＡＮＤフラッシュにおいても最悪期は脱しております。また、ファウンドリにおいても、成熟世代半導体向けの設備投資は、中国を中心に継続されております。

当社グループは、競合他社とは差別化された特長・技術を有する洗浄装置と過去からの大手半導体メーカーへの納入実績にて積み上げた信頼により、順調に事業を拡大しております。加えて、新たな市場として、米国においては新たな顧客への洗浄装置納入を目指し、米国現地法人「JET AMERICA INC.」（連結子会社）（当社100％出資）を2023年10月に設立し、活動を開始しております。また、日本においても2024年１月より新たに洗浄装置の営業部隊を立ち上げ、最先端プロセスへの対応に加え、車載向け及びパワー半導体向け等、新たな顧客の開拓に取り組みを開始しております。

当社グループは、その強みを背景に以下の経営戦略を定め、今後もお客様の更なる成長を支えてまいります。

（当社グループの強み）

①　大手半導体メーカーへの納入実績

　当社の前身であるエス・イー・エス株式会社の納入実績を含めますと、これまでに1,000台以上の半導体洗浄装置を、韓国、台湾、中国、日本、シンガポール、米国等の国々の半導体メーカーへ納入してきており、当社設立以降も約500台の装置を納入しております。特にメモリーにて世界市場シェア１、２位を争うSamsung Electronicsにおいては、次に詳しく述べますとおり当社の競合他社と差別化された技術優位性を評価頂き、半導体製造工程の特異な工程においては、当社洗浄装置を指名採用頂き、エス・イー・エス株式会社の納入実績を含め400台を超える台数を納入しております。

　これらの実績は、新規参入の半導体メーカーに対しても、十分に魅力的なＰＲポイントになると考えております。

②　競合他社と差別化できる技術優位性

　当社のバッチ式洗浄装置（BW3700、BW3000、BW2000）は、顧客の要求に合わせて洗浄槽の構成の変更や洗浄槽の数の変更といったカスタマイズ可能な装置が中心であり、また、競合他社の装置ではウエハの搬入搬出は１カ所で行われますが、ウエハの搬入・搬出装置を装置前後に別々に配置し、ウエハの流れを１方向にすることが可能なフロントタイプ（F-Type）にも対応できます。また、顧客が要求する半導体洗浄装置は微細化、多層化に対応可能な装置であり、より高粘度、高比重の薬液に対応する必要があります。こうした場合、各槽における処理時間も長くなることから、洗浄槽の構造や設置数を柔軟に変更できることは、処理時間の長い洗浄槽を複数配置するなど、単位時間あたりのウエハ処理枚数を増加させる上でも、顧客にとって機種選定における重要な要件となります。当社の推計では2022年度の全世界の半導体バッチ式洗浄装置市場において、当社のバッチ式洗浄装置は約11％の市場シェアを占めております。

　枚葉式洗浄装置（HTS-300）は、ヒーターにてウエハ上の薬液を高温にするといった特殊な機能を有し、処理性能及び処理能力の向上、使用薬液の削減といった顧客のメリットに繋がり、他社製品では対応していない薬液温度を長時間にわたり高温に維持する必要のある工程に採用されております。

③　ターゲット地域を特化した充実したサービス体制

　現在の半導体製造の主力地域である韓国、台湾、中国（Semiconductor Equipment and Materials International,（以下「SEMI」）発表の半導体製造装置販売額の上位３カ国）にターゲットを絞り、韓国には親会社であるZEUS Co., Ltd.、中国には子会社であるOribright Shanghai Co., Ltd.、台湾には子会社であるJ.E.T. Semi-Con. International Taiwan, Inc.を配置しており、納入した装置に対するアフターサービスを充実させるとともに、各顧客との関係構築を図る中で、新規に投資される装置需要についても確実に受注、売上に繋げられるよう体制を整えており、米国、日本においても同様の体制を構築するよう準備を進めております。

　さらに、韓国においては子会社であるJ.E.T. Korea Co., Ltd.による現地製造を開始しております。詳細は、「（４）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題　①顧客基盤の拡大」にて、その目的、対応について説明しております。

（経営戦略）

①  売上成長戦略

　市況の変化による売上、利益への影響を少なくし、安定かつ継続した成長を目指すべく、特定の国や特定の顧客に偏った売上依存を避けるため、重点ターゲットとしている韓国、中国、台湾や今後新規投資が見込まれる米国や日本への販売施策を進めております。2018年実績にて当社売上高の80%以上を占めた韓国市場においては、メモリーにて世界市場シェア１、２位を争うSamsung Electronicsに対し、当社が得意とするプロセスにターゲットを絞り対応してまいりましたが、2019年７月に発表された日本政府による韓国向け輸出管理強化の影響から、主要顧客の中で韓国国内での装置製造ニーズが高まり、韓国国内での装置製造を進めるべく子会社J.E.T. Korea Co., Ltd.を設立し、メモリー製造における新たなプロセス装置の他、システムＬＳＩ向けなど、これまで当社としては対応していなかったプロセスの製品についても、装置参入を目指してまいります。

　また、中国市場においては、2023年12月にSEMIが発表した半導体製造装置の需要見通しにあるとおり、今後も成長が期待されております。米国により最先端の製造技術を使用する半導体投資に関しては規制が強化されておりますが、当社のターゲットとなる最先端の製造技術を使用しない半導体投資は継続されており、当社グループとしましては、既存の顧客との関係を維持すべく、重要な市場と考えております。

　当社設立以降、継続的に取引している大手ファウンドリ（注１）や韓国メーカーの中国工場などの追加投資への対応、新たに立ち上げられている中国メモリーメーカーへの対応について、韓国市場にて実績のある装置を主体に販売施策を進めております。また、今後追加投資が見込まれるパワー系半導体を製造しているファウンドリに対しては、メモリーと比較して求められる微細化の基準が低いことからシリコンウエハだけでなくＳｉＣウエハ（注２）対応の装置を提案し、日系競合他社のサービスに不満を持つ顧客に対しては、性能や価格にて顧客の要求に合致する装置を提案しております。

（注１）半導体の設計は行わず、半導体チップを受託生産する企業。

（注２）ケイ素 (Ｓｉ)と炭素（Ｃ）により構成される化合物半導体材料。

②　コスト改善戦略

　ここ数年の急激な受注増加に対応すべく、また、突発的な需要の減少といったリスクも考慮し、製造における外部委託施策を積極的に進め、フレキシブルで効率的な生産体制の構築を進めてまいります。具体的には、BW2000及びBW3000にて中国向けなど標準的な仕様の装置は外部でのOEM製作に切り替え、当社及び韓国製造子会社ではカスタマイズ度の高いBW3000及び今後の主力となるBW3700を生産することにより、効率を高め、短納期対応、コストの削減を図っております。

　顧客からの納期短縮要請に対応すべく、各ユニットの標準化を図り、社内での先行製作、外注先でのOEM製作を進めております。併せて、納期のかかる石英部材、架台製作については、近隣の地域に拘らず海外まで含めて、新たな仕入先の開拓を進めております。

　また、2024年１月より営業部隊とは別に、ＳＤ（システムデザイン）部を立ち上げ、設計段階から当社主導で製品仕様を顧客へ提案することにより、個々の顧客に対し最適な仕様、且つ大幅なコストダウンを実現するよう進めております。

③　その他

　安定した経営基盤を構築すべく、半導体関連事業においては、装置市況が悪化した時期においても売上、利益を確保すべく、顧客に納入済みの装置の性能改善及び安定性向上の提案や保守メンテナンスサービスを行うフィールドサービス事業を海外においても積極的に展開すべく準備を進めております。

　半導体関連事業以外では、今後成長が見込まれるリチウムイオン電池に関連する検査・製造装置の開発・製造・販売を事業化すべく活動しております。詳しくは、「（４）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題　④新規事業の創出」に記載しております。

　また、同様に安定した経営基盤を構築すべく、景気変動による影響が大きな装置事業以外に、今後安定して利益を確保すべく農産物生産事業（以下、アグリ事業といいます。）に取り組んでおります。詳しくは、「（４）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題　④新規事業の創出」に記載しております。

（４）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題

　中長期的な会社の経営戦略の実現を果たすため、当社グループは下記の課題に取り組んでまいります。

①　顧客基盤の拡大

　当社の半導体関連事業の主力市場である韓国市場において、日韓の貿易問題に端を発する韓国国内での装置製造ニーズをチャンスと捉え、韓国での製造拠点となる現地法人J.E.T. Korea Co., Ltd.を設立し、2021年７月には初号機を製造、出荷し、2023年度には８台の装置を製造いたしました。今後は、更なる人員の増強や装置製造のための設備等の充実を確実に進め、日本と同等の原価・納期・品質にて装置を製造することにより、目的の一つである主要顧客から新規プロセス装置を受注することが、最も重要な課題であると認識しております。

今後も成長が期待される中国市場においては、当社グループの売上、シェアを確保していくための対応が重要になっております。2022年に開設したテクニカル・センターの有効活用に加え、中国市場向けに新たな装置を提案するなど施策を実行してまいります。

また、米国の対中国の半導体の輸出規制の強化により、米国や日本国内への半導体工場の投資が計画されており、米国においては新たな顧客への洗浄装置納入を目指し、米国現地法人「JET AMERICA INC.」（連結子会社）（当社100％出資）を2023年10月に設立し、活動を開始しております。また、日本においても、2024年１月より新たに洗浄装置の営業部隊を立ち上げ、最先端プロセスへの対応に加え、車載向け及びパワー半導体向け等、新たな顧客の開拓に取り組みを開始しております。

②　人材の確保・育成　

　技術革新の激しい半導体洗浄装置業界において事業を継続し、今後も成長を続けるためには、高度な専門技術をもったエンジニア等の人材の確保と育成が必須であると考えております。国内においては、毎年３～５名程度の新入社員の採用を継続して行うこととしており、早期育成に努めておりますが、エンジニアについては、国内、海外ともに優秀な人材が不足しており、課題として、積極的な採用活動を継続していきます。

③　内部管理体制の強化

　当社は、企業価値を最大化すべく、コーポレート・ガバナンスの充実を経営の重要課題と位置付け、取締役会による業務執行の監督と監査役による経営監視体制を構築し、さらに内部監査室を設け、監査にあたっては各部署の業務活動全般に関して、職務分掌、職務権限、社内諸規程に基づき内部統制及びコンプライアンスの観点から監査を行うなど、多様な施策を実施しております。業務の適正及び財務報告の信頼性を確保するため、これらに係る内部統制が有効に機能する様、一層の体制整備、運用の強化を図ってまいります。なお、親会社からの役職員の受入等はなく、当社グループの方針・政策決定及び事業展開については、当社独自の意思決定によって進めております。

④　新規事業の創出

　安定した経営基盤を構築すべく、半導体関連事業以外でも今後成長が見込まれるリチウムイオン電池に関連する検査・製造装置の事業化を進めております。現在、開発段階から製品段階へ移行中ではありますが、密閉後の電池ケースや外装材のピンホール等による電解液の漏れを検出する「電解液リーク検査装置（ELC-J1000）」、多層箔やフィルム等に対しても材料の熱変性や変形が少なく信頼性の高い超音波接合を可能にする「超音波接合システム（UWS-J1000）」など、これまで存在しないユーザーニーズに対応した装置を製品化しております。どちらの装置もリチウムイオン電池の弱点である発熱、発火、爆発といったリスクを製造段階で検出できることが大きな特徴であり、基本技術については特許を取得しており、今後は同様の装置を全固体電池向けに展開していくよう活動を開始しております。

　アグリ事業については、株式会社ＯＳＭＩＣがＦＣ展開するオスミック農産物生産事業を採用し、2020年11月には計画どおり初出荷を実現し、2023年度には年間約22トンの生産・出荷をいたしました。また、2021年10月には、独立した法人として個別採算管理を徹底すること、責任の明確化を図ることとともに、本事業の収益力及び競争力を向上させるため、株式会社ジェイ・イー・ティ・アグリを設立いたしました。2022年１月より株式会社ジェイ・イー・ティ・アグリにてアグリ事業を行っており、従業員の人材育成に取り組み、生産技術の向上や更なる品質向上を目指しております。なお、当面は農地所有の計画がないため、2022年１月に議決権の所有割合を74.5％とし、本書提出日現在では農地所有適格法人の要件を充足しておりません。

⑤　資金調達

当社製品である半導体洗浄装置は、受注生産で装置製作を行っております。受注後に装置製作に必要な部材等を調達して、その後装置を製作し、出荷時に装置価格の90％相当額を回収するため、一定の運転資金が必要となります。当社は取引金融機関とコミットメントライン契約を締結する等、必要かつ十分な資金を柔軟に調達できる体制を整えております。

２ 【サステナビリティに関する考え方及び取組】

当社グループのサステナビリティに関する考え方及び取組は、次のとおりであります。

なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において、当社グループが判断したものであります。

＜気候変動リスクへの対応＞

（１）ガバナンス

当社グループでは、取締役会内に設置したリスク管理委員会にて、サステナビリティに関するリスクの認識やその対応策を議論しております。

また、取締役会や常務会等において、サステナビリティを機会と捉え、より環境負荷の少ない製品の開発を推進する等の取り組みについて議論しております。

（２）戦略

当社グループでは、半導体製造過程における硫酸等の薬液の使用量を従来の機種と比べて大幅に削減することが可能な枚葉式洗浄装置（HTS-300S）の性能及び機能の向上に取り組み、また、半導体製造メーカーへの拡販に取り組むことで、半導体製造にかかる環境負荷の低減に努めております。

当社工場においては、ＬＥＤ照明や節電型空調機器の導入により、事業にて消費する電力の削減に努めております。また、アグリ事業においては、有機肥料を使用し、農薬の使用を極力控えることにより、人にも環境にも優しい作物の栽培に努めております。

（３）リスク管理

当社グループでは、取締役会内に設置したリスク管理委員会にて、気候変動リスクを含めた事業に関するリスクの認識やその対応策を議論しております。

＜人材の多様性の確保を含む人材の育成及び社内環境整備への対応＞

（１）ガバナンス

当社グループでは、総務部を中心に働き方改革を推進しており、安全衛生委員会をとおして社員の健康維持や安全衛生に努めております。

（２）戦略

当社グループでは、各種研修の実施等、人材の育成に注力しております。また、社員が働きやすいよう設備を改修する等、社内の環境整備に努めております。また、現状では男性中心の組織となっておりますが、多様な人材を採用し、それぞれの能力や特性に適した部署や役職に登用し、組織の活性化を図ってまいります。

（３）リスク管理

当社グループでは、取締役会内に設置したリスク管理委員会にて、人的資本を含めた事業に関するリスクの認識やその対応策を議論しております。

（４）指標及び目標

当社グループでは、上記（２）戦略において記載しました人材の多様性の確保を含む人材の登用や育成に関する方針及びその社内環境の整備に継続して取り組んでおります。

管理職に占める女性労働者の割合、男性労働者の育児休業取得率、労働者の男女の賃金の差異に関する実績は、「第１　企業の概況　５　従業員の状況」に記載のとおりであります。

３ 【事業等のリスク】

　本書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が連結会社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主要なリスクは以下のとおりであります。

　なお、文中の将来に関する事項は、本書提出日現在において当社グループが判断したものであります。

（１）市場環境

①半導体市場変動による影響

半導体市場は急激な技術革新や半導体を使用するデバイスの爆発的普及等により大幅に成長する反面、需給バランスの悪化から価格が下落し市場規模が一時的に縮小する等、好不況の波にさらされてきました。当社グループでは、当社の有する技術開発力を発揮できる半導体洗浄装置の製造・販売に経営資源を集中させることにより、高い利益率を獲得するとともに、継続的に利益を生み出せるよう、主力の半導体洗浄装置におきましては顧客の投資動向を注視し、既存顧客の投資案件での占有率向上と新規顧客の獲得に努めております。また、半導体市況が悪化した場合でも安定した経営基盤を構築するため、半導体洗浄装置以外の事業に進出する等、構造改革にも積極的に取り組んでおります。

しかしながら、予期せぬ半導体市場の大幅な縮小によって、顧客からの受注済み装置の納期変更による売上計上期の期ずれ、受注取消、在庫増加、顧客の財務状況悪化による貸倒損失、仕入先の経営状態悪化による供給不足等が発生する場合や顧客の事情等によって、装置の出荷や設置時期の集中、遅延等が発生する場合には、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

②特定顧客への取引集中による影響

当社グループの連結売上高に占めるSamsung Electronics Groupに対する売上高の割合は、ZEUS Co., Ltd.経由を含め2021年12月期33.7％、2022年12月期26.9％、2023年12月期28.3％と高くなっております。同社グループとは、当社が事業を譲り受けたエス・イー・エス株式会社の時代から長年にわたり良好な取引関係を保っており、同社グループから求められる性能や品質、納期を充たした製品やサービスを通じて、継続的かつ安定的な取引関係を構築しております。また、当社と現地法人の営業担当者を顧客別に配置することにより、主要顧客との良好な関係は維持しつつ、他の既存顧客や新規顧客との連携を強化し、さらに幅広いニーズを取り込むことで顧客基盤の拡大に努めております。

しかしながら、同社グループの大規模設備投資実施計画の変更、大口受注に対する値引き要請等によって、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

③研究開発による影響

当社グループは、半導体製造工程における洗浄技術、熱処理技術、乾燥技術等の最先端技術について積極的な研究開発を継続的に取り組んでおります。研究開発により得られた最先端の技術を搭載した新製品を早期に市場投入することにより、半導体洗浄装置において一定の市場シェアと高い利益率を獲得してきました。研究開発の要となる当社の技術開発セクションは、顧客ニーズを聴き取り、開発テーマを決定するセクションとなる「技術企画室」と、決定された開発テーマを具現化するセクションとなる「技術開発部」とに分かれており、タイムリーかつ迅速な研究開発が行える体制を整えております。

しかしながら、研究開発の遅延による新製品投入タイミングの遅れ等の影響によって、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

（２）コンプライアンス

①安全に関する影響

当社グループは、研究開発・製造・販売・サービス・管理等の各種業務の遂行において、安全や健康に対する配慮を常に念頭において行動するという基本理念のもと、当社グループ製品の安全性の向上や健康への影響排除のために積極的かつ継続的に努力しており、SEMIスタンダード（注）に準拠した製品仕様とすること等により、当社グループ製品の安全性向上に努めております。

しかしながら、当社グループ製品に関連する安全性等の問題により、顧客への損害発生や受注取消等が発生した場合、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

（注）SEMI(エレクトロニクス製造サプライチェーンの国際工業会)が定めた「半導体製造装置」の設計に際してのガイドライン。

②品質に関する影響

当社グループは、研究開発により得られた最先端技術を新製品に搭載し、早期に市場に投入することとしております。また、品質保証体制につきましては、品質マネジメントシステムに関する国際規格であるISO9001の認証取得を含めたサービス体制の確立に努めると同時に、当社グループと取引のあるサプライヤーに対して品質監査を実施することにより、品質向上に努めております。

しかしながら、当社グループの製品が最先端技術製品である等の原因によって、未知の分野の開発技術も多く存在し、予期せぬ不具合の発生等により当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

③安全保障貿易管理に関する影響

当社グループでは、海外への製品・部品の輸出や技術の提供を行うため、「外国為替及び外国貿易法」とその関連法令に則った貿易管理業務を行っております。また、当社グループが製造する装置を構成する部品の一部には、兵器の開発に利用できる等軍事的に転用されるおそれのある機微品目が含まれており、当社グループではそれら品目についても迅速な輸出が行えるよう、内部管理体制を整備し「特別一般包括輸出・役務（使用に係るプログラム）取引に関する許可（注）」を取得しております。

しかしながら、法改正や規制強化が実施された場合、より厳格な管理のための工数や費用が増加するほか、当社からの輸出が制約を受ける可能性があります。また、法改正により特別一般包括許可の適用範囲が変更された場合や、世界各国の経済安全保障政策が強化され当社顧客が法規制や制裁の対象となった場合、規制対象となった地域や顧客への輸出制限やリードタイムの長期化、資金決済が滞る等、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

なお、2023年7月23日施行の「輸出貿易管理令別表第一及び外国為替令別表の規定に基づき貨物又は技術を定める省令の一部を改正する省令」等の改正により、新たに半導体洗浄装置を含む23品目が輸出管理の対象となりましたが、当社製の半導体洗浄装置は改正輸出貿易管理令に基づき該非判定を実施した結果、輸出管理対象に「非該当」となることを確認しております。

（注）当該輸出許可の輸出許可番号は、HBIT-GL-23-S100005で、その有効期限は、2027年２月５日であります。当該輸出許可を受けた者が法令若しくは許可の条件に違反したとき、申請者若しくは許可の要件を満たさなくなったとき又は国際的な平和及び安全の維持の観点から必要があると認めるときは、経済産業大臣が当該許可を取り消すことがあります。また、許可の条件で規定されている場合の他、国際的な平和及び安全の維持の観点から必要があると認めるときは、経済産業大臣が定める期日から当該許可の全部又は一部の効力を失う旨の通知を行うことがあります。当社は、当該輸出許可の継続に支障を来す要因は発生しておりません。

④知的財産権に関する影響

当社グループは、製品の差別化と競争力強化のために、最先端技術の研究開発に積極的かつ継続的に取り組み、多くの独自技術を創出し、その独自技術を知的財産権として確立しております。また、技術開発に携わる役職者を事務局とした知的財産権委員会を設置し、知的財産権に関するリスク排除に努めております。

しかしながら、当社グループの製品に関する最先端技術は、知的財産に関する権利関係が複雑化しており、意図せず第三者が有する知的財産権を侵害し、訴訟に巻き込まれるリスクがあります。また、第三者が有する知的財産権のため、当社の研究開発に制約等が発生した場合、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

（３）事業継続計画

①生産拠点集中による影響

当社グループは、岡山県浅口郡里庄町の本社工場にて製品の生産を集中しております。行政機関が発行した防災マップにおいては、災害被害が想定されたエリアではありません。また、地域行政への寄附により地域防災に積極的に関与しており、災害発生時の影響を最小限に食い止めるべく努めております。

なお、生産拠点の分散化のため、一部の製品機種において九州地域の協力会社での生産委託の強化を図ると同時に、韓国現地法人での生産を開始しており、係る影響の軽減に努めております。

しかしながら、地震等の自然災害や火災・爆発等の不慮の事故が発生した場合には、生産活動の一時的な停止、さらには修復・生産工場等の代替に伴う費用負担が発生し、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

②外注先への依存による影響

当社グループは、製品の生産にあたり、外注先に製造業務を委託している工程が多数あり、重要工程の製造業務に係る外注先については、既存の外注先に加えて、異なる地域における新たな外注先を開拓し、マルチベンダー化を図ることで、安定的な製造体制の確立に努めております。

しかしながら、地震等の自然災害や火災・爆発等の不慮の事故により外注先が被災した場合や計画どおりに外注先を確保できない場合、あるいは、既存の外注先との契約を継続できない場合、生産活動が一時的に停止又は遅延し、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

（４）資金調達

①借入契約に関する影響

当社の借入金に係る契約のうち一部の契約には、各年度の末日の連結及び個別の純資産の額、及び、連結及び個別の経常損益に関する財務制限条項が付されております。そのため、財務制限条項に抵触し、借入先金融機関からの請求があった場合は、当該借入金について期限の利益を喪失する可能性があり、一括返済の義務を負った場合には、当社グループの財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

（５）親会社との関係

本書提出日現在、ZEUS Co., Ltd.（韓国取引所（KOSDAQ）上場）は、当社の議決権の66.4％を保有する親会社でありますが、当社グループの方針・政策決定及び事業展開については、当社独自の意思決定によって進めております。また、2021年12月期以降、当社グループは売上高・利益ともに親会社グループの過半を占めておりますが、当社グループの業績が半導体市況の好況を受けた結果であり、一時的であると考えております。

親会社グループの中には当社以外に半導体洗浄装置を開発・製造・販売する会社はなく、また親会社が製造・販売する半導体洗浄装置は当社からライセンス供与した一般的な枚葉式洗浄装置に限定しており、当社が開発・製造・販売するバッチ式洗浄装置や特殊枚葉式洗浄装置とは使用されるプロセスが異なることから、当社グループと親会社との間には、事業の棲み分けがなされ、競合関係もありません。また親会社とは、当社の自主性の尊重や当社が東京証券取引所スタンダード市場に上場した後においてはその上場を維持すること、当社の少数株主の利益を不当に害することのないよう、当社の経営方針及びガバナンス体制に関する合意書を締結しております。

なお、資本関係、取引関係及び人的関係については以下のとおりであり、これらについて変動又は問題が生じた場合、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

イ．資本関係について

当社は、自らの経営責任を負って独立した事業経営を行っておりますが、当社の親会社であるZEUS Co., Ltd.は当社の議決権の66.4％（本書提出日現在）を所有しており、当社は同社の連結子会社となっております。当社の経営判断において親会社の承認を必要とする取引や業務は存在しませんが、親会社は当社の株主総会における取締役の任免等を通じて当社の経営判断に影響を及ぼし得る立場にあることから、議決権の行使にあたり、親会社の利益は、当社の他の株主の利益と一致しない可能性があります。また、親会社の経営方針の変更や経営状態の悪化等により、当社グループに対して要求等があった場合には、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

ロ．取引関係について

当社グループと親会社との主な取引については、「取引基本契約書」「取引基本契約書に関する付帯覚書」「業務委託契約書」等に基づき履行されております。

当該契約書等には親会社からの調達品や販売支援等に関する条件が定められております。当社は、親会社との取引を今後も継続する方針でありますが、取引条件の妥当性については、随時、他社との取引条件等を比較しその適正性等を様々な観点から検証を行った上で、検証の結果、当社にとって不利益となる場合は条件の見直しを親会社と交渉する予定であります。また、親会社への委託業務が困難となる場合に備え、韓国現地法人での業務範囲を拡大しております。本書提出日時点において親会社との取引方針や取引条件に変化は生じておりませんが、今後の交渉により取引条件が変更となった場合には、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

なお、2023年12月期における親会社との主な取引内容は、下表のとおりであります。

ハ．人的関係について

本書提出日現在、親会社からの役員の派遣、親会社への出向者及び親会社からの受入出向者等の人的関係はありません。

（６）その他

　①為替変動による影響

当社グループは、海外輸出による売上の比率が高いため、為替リスクを避けるため円建て取引を基本としております。2021年より韓国に設立した現地法人にて製品の生産を開始しましたが、韓国で生産した製品を韓国の顧客に販売する場合は、外貨（韓国ウォン）建て取引となります。当社グループでは、為替予約等により急激な為替変動のリスクをヘッジする予定ですが、想定を超える為替変動が起こった場合、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

　②その他のリスク

当社グループは、韓国、中国、台湾をはじめとした諸外国の顧客を相手にグローバルに事業展開をしております。グローバルに事業展開する他社同様に、世界経済の変動や米中貿易摩擦等の通商問題、ロシアによるウクライナ侵攻等の紛争・戦争・テロの発生、大規模な自然災害や感染症の発生等、不可抗力な事象により、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

また、近年強化されている米国の対中国半導体輸出規制は、中国における先端半導体製造能力の抑制を目的とし、米国原産品や米国製品を一定割合組込んだもの、米国由来の技術を用いて作られたものが、先端半導体製造用途向けや特定企業向けに輸出されることを規制するものです。当社製品は日本又は韓国製であり、また、米国産品の組込比率が25％以下であることから、米国輸出管理規則の規制対象外であります。したがって、現時点では中国顧客向けに当社装置を輸出することは可能であり、当社グループの業績への影響は軽微であります。ただし、今後米国製品の組込比率要件が変更される場合は、中国への製品輸出又は中国での装置立上業務が困難になり、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

４ 【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】

(1) 経営成績等の状況の概要

当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー（以下、「経営成績等」という。）の状況の概要は次のとおりであります。

①経営成績の状況

　当連結会計年度における世界経済は、欧米の利上げやインフレは落ち着きつつあるものの、米中貿易摩擦は関係各国を巻き込みつつ新たな動きを模索し、また、ウクライナ紛争の長期化や、新たにイスラエルでの紛争勃発など国際情勢が不安定化し、地政学リスクは予断を許さない状況の中、依然先行き不透明な状況が継続しております。

　その中で、当社グループが属しております半導体業界におきましては、エレクトロニクス製品を含む世界的な消費減速の影響によりメモリー価格の下落が続きましたが、ＤＲＡＭにおいては、生成ＡＩ向けサーバーやＧＰＵには多くのＨＢＭ（High Bandwidth Memory）が使用され、ＤＲＡＭの価格は上昇に転じ、新たな設備投資も開始されております。また、成熟世代半導体向けの設備投資は、中国を中心として継続されておりますが、一部にて投資減速の傾向も見受けられます。

　このような経営環境のなか、当社グループにおきましては、韓国メモリーメーカー向け洗浄装置の立上遅延により多少の影響はありましたが、洗浄装置の販売は順調に推移し、中国ファウンドリ向け洗浄装置の販売も高水準で推移いたしました。また、利益につきましても、固定費の抑制及び現地法人の洗浄装置立上対応によるコスト削減等に取り組んだ結果、利益の増加に繋がりました。

　以上の結果、当連結会計年度における連結業績は、売上高249億84百万円(前年同期比8.1％増加)、営業利益26億13百万円(前年同期比25.7％増加)、経常利益24億44百万円(前年同期比28.9%増加)、親会社株主に帰属する当期純利益16億51百万円(前年同期比37.9%増加)となりました。

　なお、当社グループにおける報告セグメントは半導体事業のみであり、開示情報としての重要性が乏しいため、セグメント情報の記載を省略しております。

②財政状態の状況

（資産）

当連結会計年度末における流動資産は270億68百万円となり、前連結会計年度末に比べ６億29百万円増加しました。これは主に「仕掛品」及び「原材料及び貯蔵品」の増加によるものであります。

有形固定資産は９億54百万円となり、前連結会計年度末に比べ１億82百万円減少しました。

無形固定資産は56百万円となり、前連結会計年度末に比べ18百万円減少しました。

これらの結果、当連結会計年度末の総資産は、前連結会計年度末に比べ４億83百万円増加し、287億74百万円となりました。

（負債）

当連結会計年度末における流動負債は114億96百万円となり、前連結会計年度末に比べ29億38百万円減少しました。これは主に「短期借入金」の減少によるものであります。

固定負債は48億66百万円となり、前連結会計年度末に比べ６億48百万円減少しました。これは主に「長期借入金」の減少によるものであります。

これらの結果、当連結会計年度末の負債合計は、前連結会計年度末に比べ35億87百万円減少し、163億62百万円となりました。

（純資産）

当連結会計年度末における純資産合計は、前連結会計年度末に比べ40億71百万円増加し、124億11百万円となりました。これは主に当連結会計年度において東京証券取引所スタンダード市場に新規上場したことに伴う公募増資の払込みにより、「資本金」及び「資本剰余金」がそれぞれ12億77百万円増加したことに加え、「利益剰余金」が増加したことによるものであります。

③キャッシュ・フローの状況

当連結会計年度における現金及び現金同等物(以下、「資金」という。)は、前連結会計年度末に比べ13億63百万円減少し、当連結会計年度末には27億42百万円となりました。

当連結会計年度におけるキャッシュ・フローの状況とそれらの要因は次のとおりであります。

（営業活動によるキャッシュ・フロー）

営業活動の結果使用した資金は11億81百万円（前年同期は35億97百万円の使用）となりました。これは主に「税金等調整前当期純利益」の増加による資金の増加、「棚卸資産」の増加による資金の減少によるものであります。

（投資活動によるキャッシュ・フロー）

投資活動の結果獲得した資金は１億６百万円（前年同期は２億10百万円の使用）となりました。これは主に「定期預金」の減少による資金の増加によるものであります。

（財務活動によるキャッシュ・フロー）

財務活動の結果使用した資金は３億38百万円（前年同期は37億31百万円の獲得）となりました。これは主に「短期借入金」の減少による資金の減少、「新株の発行」による資金の増加によるものであります。

④生産、受注及び販売の実績

a．生産実績

　第15期連結会計年度における生産実績をサービスごとに示すと、次のとおりであります。

b．受注実績

　第15期連結会計年度における受注実績をサービスごとに示すと、次のとおりであります。

(注) 金額は、販売価格によっております。

c．販売実績

　第15期連結会計年度における販売実績をサービスごとに示すと、次のとおりであります。

(注) １．主な地域別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合は、次のとおりであります。

２．主な相手先別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合は、次のとおりであります。

（2）経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討

　経営者の視点による当社における経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討の内容は次のとおりであります。なお、文中の将来に関する事項は、本書提出日現在において判断したものであります。

①  財政状態及び経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容

　当連結会計年度における世界経済は、欧米の利上げやインフレは落ち着きつつあるものの、米中貿易摩擦は関係各国を巻き込みつつ新たな動きを模索し、また、ウクライナ紛争の長期化や、新たにイスラエルでの紛争勃発など国際情勢が不安定化し、地政学リスクは予断を許さない状況の中、依然先行き不透明な状況が継続しております。

　その中で、当社グループが属しております半導体業界におきましては、エレクトロニクス製品を含む世界的な消費減速の影響によりメモリー価格の下落が続きましたが、ＤＲＡＭにおいては、生成ＡＩ向けサーバーやＧＰＵには多くのＨＢＭ（High Bandwidth Memory）が使用され、ＤＲＡＭの価格は上昇に転じ、新たな設備投資も開始されております。また、成熟世代半導体向けの設備投資は、中国を中心として継続されておりますが、一部にて投資減速の傾向も見受けられます。

　このような経営環境のなか、当社グループにおきましては、韓国メモリーメーカー向け洗浄装置の立上遅延により多少の影響はありましたが、洗浄装置の販売は順調に推移し、中国ファウンドリ向け洗浄装置の販売も高水準で推移いたしました。また、利益につきましても、固定費の抑制及び現地法人の洗浄装置立上対応によるコスト削減等に取り組んだ結果、利益の増加に繋がりました。

　以上の結果、当連結会計年度の業績につきましては、中国ファウンドリ向け装置の販売台数が前年と比べ増加したこと等により、売上高は249億84百万円（前期比8.1％増加)と増収になりました。また、新たに開発した付加価値の高いBW3700シリーズの市場投入、現地法人の装置立上対応によるコスト削減等により、売上増加による販管費率の減少等により、営業利益は26億13百万円（前期比25.7％増加）、経常利益24億44百万円（前期比28.9％増加）、親会社株主に帰属する当期純利益16億51百万円（前期比37.9％増加）と増益となりました。

　なお、財政状態の詳細につきましては、「第２　事業の状況　４　経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析　(1)経営成績等の状況の概要　②財政状態の状況」に記載のとおりであります。

　当社グループの経営成績に重要な影響を与える要因につきましては、「第２　事業の状況　３　事業等のリスク」に記載のとおりであります。

　セグメントごとの生産・受注・販売の実績、地域ごとの販売実績、主な相手別の販売実績は、「第２　事業の状況　４　経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析　(1)経営成績等の状況の概要　④生産、受注及び販売の実績」に記載のとおりであります。

５ 【経営上の重要な契約等】

(注) １．１年毎の自動更新です。

２．成功報酬として、当社は販売価格の３～５％の販売手数料を支払っております。

６ 【研究開発活動】

当社グループでは、薬液による洗浄をコア技術として、様々な薬液の濃度、温度、流量、沸騰、乾燥など、多様な技術を融合・展開させるなどの基礎研究から、バッチ式及び枚葉式洗浄装置の製品開発に至るまで積極的な研究開発活動に取り組んでおります。

当連結会計年度は、半導体洗浄装置を中心とした既存事業の拡大・強化に向けた開発投資を行うとともに、新たな乾燥技術の開発を行うべくデモ装置の検討、流体解析技術の基礎的知見を社内にて習得すべく流体解析ソフトの導入を進めました。また、リチウムイオン電池及び全固体電池の製造及び検査装置においても、研究開発活動を行い、総額で739百万円の研究開発費を投入しました。

なお、当社グループの主な研究開発成果は次のとおりであります。

半導体製造技術における基礎研究においては、流体解析ソフトを導入し、自社での解析及び試験研究にて有効に活用しました。半導体洗浄装置においては、バッチ式洗浄装置であるBW3700のF-Typeを開発・製造し、バブリングなどの新たな機能を追加しました。また、乾燥機への防爆対応、ウエハガイドへのパーティクル対策、新たな薬液ミキシング・ユニットを開発しました。枚葉式洗浄装置では、HTS-300において新たな薬液に対応したプロセス評価を実施し、新たな装置開発へと繋げてまいります。

第３ 【設備の状況】

１ 【設備投資等の概要】

当連結会計年度に取得した有形固定資産は41百万円となりました。主な設備投資は、工場内スペース新設への投資であります。

２ 【主要な設備の状況】

(1)  提出会社

(注) １．現在休止中の主要な設備はありません。

２．帳簿価額のうち「その他」は、工具・器具及び備品であります。

３．笠岡ファームは土地、建物及び構築物の一部を連結会社以外から賃借しております。年間賃借料は、4,200千円であります。なお、賃借している土地の面積は［　］で外書きしております。

４．上記記載の従業員数欄の（　）は臨時従業員数を外書きしております。

(2) 国内子会社

　　国内子会社は、主要な設備を有しておりません。

(3) 在外子会社

(注) １．現在休止中の主要な設備はありません。

２．帳簿価額のうち「その他」は、工具・器具及び備品であります。

３．建物を連結会社以外から賃借しております。年間賃借料は、60,556千円であります。

４．上記記載の従業員数欄の（　）は臨時従業員数を外書きしております。

５．在外子会社の一部は重要な設備を有していないため記載しておりません。

３ 【設備の新設、除却等の計画】

(1)重要な設備の新設等

(注) 完成後の増加能力については、その測定が困難であるため、記載を省略しております。

(2）重要な設備の除却等

特記すべき重要な事項はありません。

第４ 【提出会社の状況】

１ 【株式等の状況】

(1) 【株式の総数等】

① 【株式の総数】

② 【発行済株式】

(2) 【新株予約権等の状況】

① 【ストックオプション制度の内容】

該当事項はありません。

② 【ライツプランの内容】

該当事項はありません。

③ 【その他の新株予約権等の状況】

該当事項はありません。

(3) 【行使価額修正条項付新株予約権付社債券等の行使状況等】

該当事項はありません。

(4) 【発行済株式総数、資本金等の推移】

(注) １．株式分割（１：２）に係るものであります。

２．有償一般募集（ブックビルディング方式による募集）

発行価格　　4,630円

引受価額　　4,259.60円

資本組入額　2,129.80円

(5) 【所有者別状況】

（注）自己株式120,000株は、「個人その他」に1,200単元含まれております。

(6) 【大株主の状況】

　2023年12月31日現在

(注)　上記のほか当社所有の自己株式120,000株があります。

(7) 【議決権の状況】

① 【発行済株式】

② 【自己株式等】

2023年12月31日現在

２ 【自己株式の取得等の状況】

【株式の種類等】　普通株式

(1) 【株主総会決議による取得の状況】

　　　該当事項はありません。

(2) 【取締役会決議による取得の状況】

　該当事項はありません。

(3) 【株主総会決議又は取締役会決議に基づかないものの内容】

　該当事項はありません。

(4) 【取得自己株式の処理状況及び保有状況】

３ 【配当政策】

当社は、株主に対する利益還元を経営の重要課題の一つとして位置付けておりますが、事業環境の変化に対応できる財務の健全性維持や成長投資に必要な内部留保の充実などを総合的に勘案し、連結ベースで計算した配当性向20％以上を目安に安定的かつ継続的な配当を実施していくことを基本方針としております。

なお、当社は、期末配当のみの年１回の剰余金の配当を行うことを基本方針としておりますが、会社法第454条第５項に規定する中間配当（基準日：毎年６月30日） を行うことができる旨を定款に定めております。配当の決定機関は、中間配当は取締役会、期末配当は株主総会であります。

本方針に基づき2023年12月期の期末配当金につきましては、１株当たり102円とすることといたしました。

（注）基準日が当事業年度に属する剰余金の配当は、以下のとおりであります。

(注)　2023年１月１日付で普通株式１株につき２株の株式分割を行っております。そこで、2022年12月期の期首に当該株式分割が行われたと仮定して、2022年12月期に属する剰余金の配当を算出すると、１株当たり配当額は63.5円に相当いたします。

４ 【コーポレート・ガバナンスの状況等】

(1) 【コーポレート・ガバナンスの概要】

①　コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方

当社は、グループの持続的な成長と中長期的な企業価値の向上を図るため、コーポレート・ガバナンス体制の充実を図っております。

②　企業統治の体制の概要及び当該体制を採用する理由

当社は、取締役会による業務執行の監督と監査役会による経営監視体制を構築しております。これにより、コンプライアンスの確保、適切なリスク管理、適時の情報開示による経営内容の透明性の確保とともに、効果的かつ効率的経営が確保できると考えており、企業統治が最も有効であると判断しているためです。

当社のコーポレート・ガバナンス体制の概要は以下のとおりです。

[取締役会]

取締役会は、取締役房野正幸、平井洋行、増田隆、問田宗寿、田渕裕久、小野保、奥田哲也の７名（うち田渕裕久、小野保、奥田哲也の３名は社外取締役）で構成されており、代表取締役社長房野正幸を議長とし、月１回の定例取締役会のほか、必要に応じて臨時取締役会を開催し、法令で定められた事項や経営に関する重要事項を決定しております。

[監査役会]

監査役会は、監査役今井志郎、寺尾耕治、山本実治の３名（うち寺尾耕治、山本実治の２名は社外監査役）で構成され、常勤監査役１名を置いております。各監査役は、監査役会で決定した監査方針、監査計画等に従い、監査役監査活動を行い、取締役の職務執行や会社財産の状況等を監査し、経営の健全性の監督を実施しております。

[指名報酬委員会]

指名報酬委員会は、社外取締役田渕裕久、小野保、奥田哲也及び代表取締役社長房野正幸の４名で構成されており、取締役会から諮問を受けた取締役、監査役及び執行役員の指名・報酬等に関する事項について、取締役会に答申を行っております。

[コンプライアンス委員会]

コンプライアンス委員会は、取締役会に直属しており、代表取締役社長房野正幸を委員長とし、コンプライアンス担当取締役及び社外取締役、内部監査室長、従業員代表を委員として、各委員が監査役、内部監査室と連携し、全社横断的なコンプライアンス体制の整備、問題点の把握及び役職員の研修教育等を行っております。

[リスク管理委員会]

リスク管理委員会は、取締役会に直属しており、代表取締役社長房野正幸を委員長とし、常勤取締役及び常勤監査役を委員として、各委員が、リスクマネジメントの全社的推進と管理に必要な情報の共有化を図り、リスクマネジメントに係る方針、施策の決定、リスク回避措置の指導監督等を行っております。

[常務会]

常務会は、経営企画室を事務局として常勤取締役４名と執行役員１名、常勤監査役１名で構成されており、代表取締役社長房野正幸を議長とし、月１回の定例常務会のほか、必要に応じて臨時常務会を開催し、職務権限規程等で定められた事項を決定しております。

[経営会議]

経営会議は、経営企画室を事務局として常勤取締役４名と執行役員１名、常勤監査役１名、部門長で構成されており、代表取締役社長房野正幸を議長とし、月１回の定例経営会議のほか、必要に応じて臨時経営会議を開催し、職務権限規程等で定められた事項を協議及び報告しております。

[内部監査室]

内部監査室は、社長直轄の組織として内部監査員２名で構成され、各部署の業務活動全般に関して、職務分掌、職務権限、社内諸規程に基づき内部統制及びコンプライアンス等の観点から監査を行っております。また、内部監査において問題点を発見した場合には、社長へ報告の上、被監査部門に改善の勧告を行うとともに、改善状況の確認のためのフォロー監査を実施しております。

[社外取締役協議会]

社外取締役協議会は、社外取締役３名で構成され、互選により選任された筆頭社外取締役を議長とし、原則として月１回の定例会議を開催し、取締役会における議論に積極的に貢献するために必要な情報交換・認識共有を行うとともに、事業及びコーポレート・ガバナンスに関する事項等を協議し、代表取締役その他の取締役、及び取締役会への提案を行っております。

当社のコーポレート・ガバナンス体制の模式図は次のとおりであります。

コーポレート・ガバナンス体制図

③企業統治に関するその他の事項

・内部統制システムの整備の状況

　当社は、当社並びに子会社からなる企業集団の業務の適正性を確保するための体制として、「内部統制システムの整備に関する基本方針」を定め、この基本方針に則り、業務の適正を確保するための体制を整備しております。その内容は以下のとおりであります。

1．取締役及び使用人の職務の執行が法令及び定款に適合することを確保するための体制

(1) 企業倫理・法令遵守を推進するため、取締役会直属の組織として社長を委員長とする「コンプライアンス委員会」を設けるほか、必要な社内の体制を整備する。

(2) 取締役及び使用人が遵守すべき具体的行動基準として「コンプライアンス基本方針」や「クレド」を制定するほか、必要なガイドライン等を整備する。特に反社会的勢力との関係遮断については、全社一体の毅然とした対応を徹底する。

(3) 社内及び社外の第三者機関を通報窓口とした内部通報体制を構築し、組織的又は個人的な法令や定款に違反する行為、又はそのおそれのある事実の早期発見に努める。

(4) 法令遵守の最重要事項の一つである安全保障貿易管理について、「安全保障輸出管理規程」を制定し、「安全保障輸出管理委員会」を設置する。

(5) 社長直轄の内部監査部門を設置し、子会社を含めた当社グループにおける法令、定款及び社内規程の遵守状況の監査を行い、問題点の把握、指摘及び改善活動を推進する。

2．取締役の職務の執行が効率的に行われることを確保するための体制

(1) 「取締役会規程」及び「職務権限規程」を制定し、意思決定事項のうち、取締役会に留保される事項及び社長や担当役員等に委任される事項を規定する。

(2) 取締役会又は社長が決定する重要事項について、協議機関として「常務会」を設置し、方針の審議、ないし実行の審議を行う。

(3) 「指名報酬委員会規程」を制定し、取締役会の諮問機関として、取締役会が選定した３名以上の取締役からなる委員で構成し、その過半数を社外取締役とする「指名報酬委員会」を設置して、取締役、監査役及び執行役員の指名・報酬等の決定に係る公平性、透明性及び客観性を高める。

3．取締役の職務の執行に係る情報の保存及び管理に関する体制

(1) 経営に関する重要文書や重要情報、秘密情報、個人情報について、規程を整備し、適切に保存・管理する。

4．損失の危険の管理に関する規程その他の体制

(1) リスク管理は、「リスク管理規程」に基づき、当社グループとして一貫した方針の下に、効率的かつ総合的に実施する。

(2) 企業活動に潜在するリスクを特定し、平常時からその低減及び危機発生の未然防止に努めるため、取締役会直属の組織として社長を委員長とする「リスク管理委員会」を設けて全社リスクマネジメントを推進するとともに、重大な危機が発生した場合に即応できるよう、規程を整備する。

5．子会社における業務の適正を確保するための体制

(1) 子会社の取締役（董事・総経理）等の職務の執行に係る事項の当社への報告に関する体制を整備するため、重要な経営情報の当社への定期的な報告に関する規程を定めるほか、当社の経営陣が子会社の経営状況について直接報告を受ける会議を定期的に開催する。

(2) 子会社の損失の危険の管理に関する規程その他の体制を整備するため、子会社に対し、それぞれの事業形態や経営環境を踏まえたリスクマネジメント体制の構築を指導し、活動状況について定期的な報告を受ける。

(3) 子会社の取締役（董事・総経理）等の職務の執行が効率的に行われることを確保するための体制を整備するため、業務執行に関して、当社が決定権限を留保する範囲を規程により定める。また、それぞれの子会社を所管する本部等を定めることで、経営情報の一元的な把握を図るとともに、子会社が必要とする支援・指導を行う。

(4) 子会社の取締役（董事・総経理）等及び使用人の職務の執行が法令及び定款に適合することを確保するための体制を整備するため、「コンプライアンス基本方針」を、当社グループ共通の行動基準として、子会社に周知する。同時に、子会社に対し、それぞれの所在国における法令やビジネス慣習、事業形態等を勘案した行動規範やガイドライン等の制定を求める。また、子会社の取締役（董事・総経理）等及び使用人による内部通報について、状況が適切に当社に報告される体制を整備することを指導する。

6．財務報告の信頼性及び適正性を確保するための体制

(1) 当社グループの財務報告に係る内部統制については、金融商品取引法その他の適用法令に基づき、評価、維持、改善等を行う。

(2) 当社の各部門及び子会社は、その業務の遂行にあたり、業務分掌により牽制、モニタリング等を実施し、財務報告の適正性の確保に努める。

7．監査役への報告に関する体制及びその報告をした者がそれを理由として不利な取扱いを受けないことを確保するための体制

(1) 当社グループの取締役等、使用人及び子会社の監査役（監事）は、監査役からの要請に応じ、職務の執行に関する事項を報告する。

(2) 内部通報制度の担当部署は、当社グループの内部通報の状況について、定期的に監査役に報告する。

(3) 監査役へ報告を行った者に対し、それを理由として不利な取扱いを行わない旨を規程に定め、子会社に対し、同様の規程を制定するよう指導する。

8．監査役の職務を補助すべき使用人に関する事項、当該使用人の取締役からの独立性に関する事項及び監査役の当該使用人に対する指示の実効性の確保に関する事項

(1) 監査役の求めがある場合、職務を補助すべき専任の使用人を置く。当該使用人は、もっぱら監査役の指揮命令に従うものとし、その人事については監査役と事前に協議を行う。

9．その他監査役の監査が実効的に行われることを確保するための体制

(1) 監査役は、重要な意思決定の過程及び業務執行の状況を把握するために、取締役会及びその他必要と認める重要な会議に出席する。

(2) 監査役は、取締役や経営陣との面談、事業場や子会社への往査を定期的に実施する。

(3) 監査役は、会計監査人及び内部監査部門から定期的に報告を受け、また意見交換を行う。

(4) 監査役が職務の執行のために合理的な費用の支払いを求めたときは、これに応じる。

・リスク管理体制の整備の状況

　当社の事業を取り巻く様々なリスクに的確に対応するため、各担当部署又は各委員会において、規則・ガイドラインの制定、研修の実施、マニュアルの作成等を行い、組織横断的なリスク状況の監視及び全社的対応は総務部が行い、リスク対応に向けた体制の構築を行っております。新たに生じたリスクについては、取締役会においてすみやかに対応責任者となる取締役を定めることとしております。また、リスクの内容によりすみやかに情報開示を行う体制を構築しております。

・取締役及び監査役の責任免除

　当社は、会社法第426条第１項の規定に基づき、取締役会の決議によって、同法第423条第１項の取締役及び監査役（これらの者であった者を含む。）の損害賠償責任を法令の限度において、免除することができる旨定款に定めております。これは取締役及び監査役が期待されている役割を十分に発揮できるようにすることを目的とするものであります。

・責任限定契約の内容の概要

　当社は、会社法第427条第１項の規定に基づき、社外取締役と監査役との間において、同法第423条第１項の損害賠償責任を限定する契約を締結しております。当該契約に基づく損害賠償責任限度額は、定款であらかじめ定めた金額又は法令が規定する額のいずれか高い額としております。これは取締役及び監査役が職務を遂行するにあたり、その能力を十分に発揮して、期待される役割を果たしうる環境を整備することを目的とするものであります。

・取締役の定数

　当社の取締役は10名以内とする旨定款に定めております。

・取締役の選任の決議の要件

　当社は、取締役の選任の決議について、議決権を行使することができる株主の議決権の３分の１以上を有する株主が出席し、出席した当該株主の議決権の過半数をもって行う旨、また、取締役の選任決議については累積投票によらない旨を定款に定めております。

・中間配当の決定機関

　当社は、株主への機動的な利益還元ができるよう、取締役会の決議により、毎年６月30日を基準日として、会社法第454条第５項に定める中間配当を行うことができる旨を定款に定めています。

・自己株式の取得の決定機関

　当社は、会社法第165条第２項の規定により、取締役会の決議によって市場取引等により、自己の株式を取得することができる旨を定款に定めています。これは、経営環境の変化に対応した、機動的な資本政策の遂行を目的とするものです。

・株主総会の特別決議

　当社は、会社法第309条第２項に定める株主総会の特別決議要件について、議決権を行使することができる株主の３分の１以上を有する株主が出席し、出席した当該株主の議決権の３分の２以上をもって行う旨を定款で定めております。これは、株主総会における特別決議の定足数を緩和することにより、株主総会の円滑な運営を行うことを目的とするものであります。

・取締役会の活動状況

　当社は、取締役会規程に基づき、定例取締役会を毎月１回開催しており、また必要に応じて臨時取締役会を随時開催しております。当事業年度に開催した取締役会への各取締役の出席状況は、次のとおりであります。

　取締役会における具体的な検討内容としては、株主総会に関する事項、代表取締役に関する事項、会社の決算に関する事項、会社規程に関する事項、関連当事者との取引に関する事項、新規上場に関する事項及びその他取締役会で必要と認めた事項等であります。

・指名報酬委員会の活動状況

　当社は、指名報酬委員会規程に基づき、指名報酬委員会を適宜開催しております。当事業年度に開催した指名報酬委員会への各委員の出席状況は、次のとおりであります。

　指名報酬委員会における具体的な検討内容としては、取締役及び監査役候補者に関する事項、役付取締役に関する事項、役員の報酬に関する事項及びその他指名報酬委員会で必要と認めた事項等であります。

(2) 【役員の状況】

①役員一覧

男性10名　女性─名(役員のうち女性の比率─％)　

(注) １．取締役　田渕　裕久及び小野　保、奥田　哲也は、社外取締役であります。

２．監査役　寺尾　耕治及び山本　実治は、社外監査役であります。

３．任期は2022年12月期に係る定時株主総会終結の時から2024年12月期に係る定時株主総会終結の時までであります。

４．任期は2022年12月期に係る定時株主総会終結の時から2026年12月期に係る定時株主総会終結の時までであります。

５．当社は、法令に定める監査役の員数を欠くことになる場合に備え、会社法第329条第３項に定める補欠監査役１名を選任しております。補欠監査役の略歴は次のとおりであります。